废水主要来自晶棒切割、研磨和抛光工序

更新时间:2026-01-07 14:30 类型:新闻资讯 来源:网络整理

  

废水主要来自晶棒切割、研磨和抛光工序

  华中某科技园区内的LED衬底资料出产企业,要紧出产蓝宝石衬底。因为出产流程中应用大宗酸碱和重金属,废水惩罚难度较大。园区央浼全体企业废水务必预惩罚抵达纳管圭表后才调排入园区污水惩罚厂。该项目惩罚周围为200吨/天,占地约800平方米。

  废水要紧来自晶棒切割、研磨和掷光工序,要紧污染物为:亚微米级颗粒物(SS高达1500mg/L)、氟化物(300-600mg/L)、铝离子(100-200mg/L)及少量油类物质。废水呈碱性,pH值平日正在9-11之间,且含有大宗难重降的微小颗粒。

  惩罚后的废水各项目标均优于园区纳管圭表:SS50mg/L,氟化物15mg/L,铝离子3mg/L,pH6.5-8.5。体例主动化水平高,仅需1人兼职操作。与古代工艺比拟,减削药剂打发30%以上,污泥产量裁汰40%,运转用度消重约25%。

  通过对以上三个外率案例的理会,可能总结出半导体LED行业废水惩罚的几个合头本事重点:

  :差别工序废水应分类采集,万分是含氰废水、高氟废水等特别废水需孑立惩罚。

  :针对氟化物、重金属等特性污染物,需采用特意的去除本事,如化学重淀、离子相易、吸附等。

  跟着环保央浼的接续提升和本事的发展,半导体LED废水惩罚正朝着更高效、更节能、更资源化的宗旨发扬。上述案例中的惩罚工艺和阅历,可为同类企业供给有代价的参考。

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